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POLOS 實時光譜測量裝置用于研究所及產(chǎn)品簡介: polos 單點測量裝置微型化解決方案,用于對透明和半透明的單層薄膜或薄膜堆疊進行精確和精確的非破壞性層厚測量。保證高度準確和可重復的測量。
產(chǎn)品型號:FR-Mic
廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
更新時間:2025-11-12
訪 問 量:618
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聯(lián)系電話:18518172431
POLOS 實時光譜測量裝置用于研究所
FR-Mic 提供:
實時光譜測量
薄膜厚度、光學特性、不均勻性測量、厚度映射
使用集成的 USB 連接高質(zhì)量彩色相機進行成像
使用 FR-Mic,只需單擊一下,即可在 UV / VIS / NIR 光譜范圍內(nèi)的任何光譜范圍內(nèi)對薄膜厚度、光學常數(shù)、反射率、透射率和吸光度進行局部測量。
FR-Mic 是用于快速&準確的涂層表征應用的模塊化光學柱,這些應用需要小至幾微米的光斑尺寸,典型的例子包括(但不限于):微圖案表面,粗糙表面和許多其他。它可以與專用的計算機控制的XY舞臺結(jié)合使用,從而可以快速、輕松且準確地自動映射樣品的厚度和光學屬性。

POLOS 系列
FR-Mic 370 nm - 1700 nm 光譜范圍
實時光譜測量
薄膜厚度、光學特性、不均勻性測量、厚度映射
使用集成的 USB 連接高質(zhì)量彩色相機進行成像
品牌POLOS 系列
產(chǎn)品編號FR-麥克風-370-1700
大小FR-Mic 麥克風
材料臺式系統(tǒng)
厚度范圍15 nm 至 150 μm
光譜范圍370 納米 - 1700 納米
光源 MTBF鹵素燈(內(nèi)部),3000 小時(不包括在內(nèi)!
FR-Mic 370 nm - 1700 nm 光譜范圍 應用:
大學和研究實驗室
半導體(氧化物、氮化物、硅、光刻膠等)
POLOS 實時光譜測量裝置用于研究所
郵箱:2850590593@qq.com
傳真:010-84786709-666
地址:北京市順義區(qū)南法信鎮(zhèn)金關(guān)北二街3號院4號